Анодирование
преобразует поверхность металлов (Al, Ti) в пористый оксидный слой на аноде, создавая сверхтвёрдые, коррозионностойкие или цветные покрытия с наноразмерными ячейками, идеальные для защиты и дизайна.
Гальваника (электроосаждение)
наращивает металлические пленки (Cu, Ni, Au) на проводящей подложке-катоде через восстановление ионов из раствора, обеспечивая беспрецедентное покрытие сложных форм (даже внутренних полостей),
но требует токсичных электролитов.
Струйная печать
точечно наносит «чернила» через дюзы по цифровым шаблонам, позволяя печатать гибкую электронику (сенсоры, OLED) на любых поверхностях (бумага, ткань) с минимальными отходами, но требует точного контроля вязкости и скорости сушки.
Spin-coating
создает ультратонкие однородные пленки за секунды путём центробежного распределения раствора на вращающейся подложке, идеален для лабораторных покрытий (перовскиты, фоторезисты), но не подходит для паттернов и теряет до 95% материала.
Химические методы (CVD, включая ALD)
создают пленки через химические реакции газовых прекурсоров на подложке в вакууме, обеспечивая идеальную конформность даже для наноструктур и атомарную точность толщины (ключевое применение: диэлектрики в транзисторах, графен).
Физические методы (PVD)
осаждают тонкие пленки за счет физического переноса вещества (испарение, распыление мишени) в вакууме, обеспечивая чистоту и скорость, но с ограниченной способностью покрывать сложные формы (ключевое применение: металлические слои в микрочипах).
Немного подробнее про методы получения тонких пленок
Схема физического метода получения
тонких плёнок
Схема химического метода
получения тонких плёнок
Схема метода получения тонких плёнок
спин-коатингом
Схема получения тонких плёнок
струйной печатью
Схема получения тонких плёнок
электроосаждением
Схема получения тонких плёнок анодировнием